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menu ホーム製品情報 HVPE MBE 基板 β酸化ガリウムとは会社情報社長挨拶会社概要組織図ニュース報道発表お知らせ展示会・学会情報採用情報お問合せ English GaNやSiCを超える高耐圧パワーデバイスの可能性酸化ガリウムの基板製造、薄膜成長、パワーデバイス作製において、世界トップレベルの技術を保有しています。 >製品情報 >会社情報 >採用情報株式会社ノベルクリスタルテクノロジーでは、酸化ガリウムのエピウエハの開発、製造、販売を行っております。酸化ガリウムの研究開発では、タムラ製作所、情報通信研究機構（NICT）、東京農工大学を中心メンバーとする研究チームが、世の中をリードしています。私達の技術は、この研究チームの開発成果を基盤としています。 >製品のお問合せはこちら --> お知らせお知らせ 2022.4.11 採用情報を更新しました 2022.3.14 プレスリリース（キラー欠陥を従来の10分の1に低減した第3世代酸化ガリウム100 mmエピ… 2022.3.1 プレスリリース（世界初、HVPE法で6インチウエハ上への酸化ガリウム成膜に成功） 2022.2.22 展示会・学会情報（第69回応用物理学会春季学術講演会） 2022.2.21 プレスリリース（資金調達実施のお知らせ）お知らせ一覧報道発表 2022.3.14 キラー欠陥を従来の10分の1に低減した第3世代酸化ガリウム100 mmエピウエハーの開発… 2022.3.1 世界初、HVPE法で6インチウエハ上への酸化ガリウム成膜に成功 2022.2.21 資金調達実施のお知らせ 2021.12.24 世界初、アンペア級・1200 V耐圧の｢酸化ガリウムショットキーバリアダイオード｣を開発 2021.6.16 高品質 β 型酸化ガリウム 100 ｍｍエピウエハの開発に成功 2021.6.16 世界最高耐圧の酸化ガリウム縦型トランジスタの開発に成功報道発表一覧サイトマップお問合せプライバシーポリシー Copyright © 株式会社ノベルクリスタルテクノロジー PAGE

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